专利布局的需要,还是涉嫌一图多用?宁德时代多件专利附图高度类似

带图评论：专利附图不是任人反复使用的道具——出自《赌圣》

　　1月9日，经济学家任泽平炮轰宁德时代，天下苦“宁王”久矣!

　　其中，他就提到宁德时代“涉嫌用争议和问题专利打压竞争对手”的问题，看来宁德时代的专利话题这次又出圈了。

　　经济学家们会研究宁德时代的产业链、生态链，以及他家成功的经验。

　　我们搞专利的，自然也会研究宁德时代的专利撰写、专利布局，梳理案例总结实务经验。

　　于是在这个过程中，你就可能发现宁德时代专利的一些问题，比如同日申请保护范围的冲突(传送门)，比如实施例参数不合理等等问题(传送门)。

　　这些存在“问题”的专利，有些还被宁德时代拿去打侵权诉讼，所以就可能被对手拿来反击说是滥用专利权。

　　为了让专利保护回归保护技术创新，我们始终还是提倡：

　　专利实施例的数据要真实可信，不要弄虚作假。

　　不过近期，我们又发现宁德时代几件同日申请的专利，附图高度类似。

　　那到底是专利布局的需要，要对技术方案用多件专利来保护呢？

　　还是涉嫌一图多用，专利数据存疑呢？

　　我们挑其中的两篇CN112447964B和CN112447967B为例，重点对比一下。

　　首先，附图的近似度有多高？

　　#FormatImgID_3#

　　对比两件专利中各自正极材料实施例1的元素分布图，如上图，可以发现两张图相似度特别高。

　　尤其请注意一些细节：颗粒形状组合(黄箭头)，颗粒外围的“小尾巴”(红箭头)，亮点集中区域(绿箭头)，明暗组合区域(蓝箭头);

　　按理说，这张图反应的是材料微观层面元素含量与分布的信息，不同样品的图谱是绝对不会一模一样的，就算是同一个材料做两次都不可能得到完全一样的图谱。

　　但这两张图无论在位置、形状，还是明暗关系、局部细节方面，都几乎是一模一样。

　　其次，两个实施例1是同样的技术方案么？

　　两个专利的实施例1采用的正极活性材料前驱体是一样的，都是[Ni0.8Co0.1Mn0.1](OH)2。

　　但也就这么一点一样了...

　　其一，他们掺杂的元素是不一样的，CN112447964B只掺杂了锑，而CN112447967B掺杂了锑和铝。

　　其二，他们制备时的烧结温度、烧结时间不一样;

　　其三，二者的扣电池初始克容量等电池性能参数也不一样;

　　可见，两件专利里的实施例1是完全不同的两个方案。

　　试问，元素成分都不一样的两个实施例，元素分布图怎么能一致呢?

　　同样的问题，CN112447965B的实施例1掺杂的是钼，也是具有不同的元素成分;

　　CN112447968A的实施例1制备过程中烧结的方法和温度不一样，锑的含量也不一样，那么元素分布的情况肯定也该和别的样本不同;

　　然而，就是这样实质不同的实施例1们，却都有着几乎一模一样的元素分布图。

　　单看一篇专利可能谁都不会发现其中的问题，但是把他们合起来看，就会发现这些本该不一致的附图居然惊人的类似。

　　除此之外，这四件专利的其他几张附图也有相似之处，他们绝对不是巧合!

　　显然，这几件同日申请的专利，是一个专利组合的关系;

　　基础方案可能是掺杂锑，扩展方案是掺杂铝、钼等元素;

　　并且制备方法也有一个拓展，既申请烧结条件A的，也申请烧结条件B的。

　　客观来说，对专利权人的好处是：

　　技术方案“裂变”成了4个专利，扩大了保护范围;

　　迷惑了本领域技术人员，搞不清楚哪个方案才是效果最好的;

　　正常情况下，如果每个方案都做了实验，都测试了元素分布、有益效果，都使用了真实的表征图谱，倒还罢了;

　　现在反复用类似的附图，反而使自己的专利布局露出了马脚。

　　所以不禁要问了：

　　这4件专利到底是不是4个真实的技术方案？

　　专利的有益效果到底是不是真的，还是其中哪件是真的？

　　不过，审查员应该没有把4件专利连起来看，所以没有发现附图的问题;

　　但是这样的组合总归有缺乏创造性的风险，于是审查员最终把CN112447968A给驳回了。

　　但毕竟专利制度还是要保护公众利益的，允许大家在专利失效后可以自由实施专利方案的。

　　现在发现的这些疑问，无疑对本领域技术人员未来实施专利方案造成了障碍，恐怕这也能成为对手无效宁德时代专利的“抓手”。

　　而如果宁德时代还要拿这样的专利去维权，那可不是令同行觉得难以信服?

　　不过话说回来，毕竟涉嫌一图多用，这在学术上是比较严重的问题。

　　那么这批宁德时代的专利，属不属于“问题专利”？属不属于另类的“非正常”呢？

　　那么这些专利，到底保护的是技术创新，还是专门为同行设置的“专利障碍”呢？

　　每个人对宁德时代这样的专利布局方式，可能会持有不同的观点。

　　但在1月9日总理视察专利局的时候，是这样勉励大家的：

　　保护知识产权，实际上是保护创新，保护第一生产力！